기술 분야, 특히 반도체 산업을 둘러싼 중국과 미국 간의 전쟁은 계속해서 전개되고 있습니다.
최근 몇 달 동안 이 분쟁은 한국, 대만 등 국가가 관련된 사건으로 인해 여러 우여곡절을 겪었습니다. 그러나 최근 보고서에 따르면 이들 국가는 이전에 생각했던 것만큼 멀리 떨어져 있지 않은 것으로 나타났습니다.
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한국과 대만이 이 제품 생산에서 주도권을 확대하려고 하기 때문에 중국과 미국 모두 걱정할 이유가 있습니다.
이로 인해 이 큰 충돌의 양측은 반도체 제조 분야에서 입지를 강화하기 위한 조치를 취하게 되었습니다. 중국이 선두를 차지했다.
CHIPS법에 따라 미국은 네덜란드 거대 기업 ASML 등 기업에 영향력을 행사할 계획이다. 이 장비가 중국.
이러한 조치로 인해 중국은 자원을 최적화하고 향후 경제적으로 실행 가능한 대안인 자체 리소그래피 장비를 개발하게 되었습니다. 그러나 한 중국 기업이 역사적인 이정표를 세웠다.
(이미지: 공개)
프랑스 포털의 정보에 따르면 제조 및 제조 전문 중국 회사인 SMEE는 칩 생산, 올해 말에 새로운 28nm 리소그래피 기계에서 칩 제조를 시작할 것이라고 발표했습니다.
최근까지 중국은 최첨단 장비를 사용해 90nm 칩을 개발하는 데 국한되어 있었습니다. TSMC(대만), 삼성(한국), 인텔(미국)과 같은 회사가 생산하는 5nm 칩에 비해 훨씬 부족합니다. 유나이티드).
28nm는 아직 언급된 가장 발전된 수준과는 거리가 멀지만, 작년까지 중국이 사용했던 90nm에 비하면 상당한 발전을 의미합니다.
놀랍게도 또 다른 중국 회사인 SMIC는 ASML이 제공한 장비 덕분에 원래 이러한 생산용으로 설계되지 않은 기계에서 7nm 칩을 개발할 수 있었습니다.
그러나 제한으로 인해 SMIC는 더 이상 ASML 및 미국과 관련된 다른 회사로부터 기계를 구매할 수 없습니다.
그 결과 중국은 자국 산업의 생산을 늘리기 위해 약 2,150억 레알에 달하는 상당한 투자를 했습니다.
더 발전된 기계가 곧 출시될 예정이지만, 중국은 이미 28nm 리소그래피 장치를 개발했다고 자랑할 수 있습니다. 이는 과거의 90nm에 비해 놀라운 성과입니다.
이러한 발전을 통해 중국은 계속해서 선두를 달리고 있습니다. 기술 개발 여러 분야에서 글로벌 반도체 시나리오에서 입지를 확고히 하고 있습니다.
